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氟化钙靶材CaF2磁控溅射靶材

2021-11-10 02:24:01  544次浏览 次浏览
价 格:面议

科研实验专用氟化钙靶材CaF2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

氟化钙(CaF2)为无色结晶或白色粉末,难溶于水,微溶于无机酸,不溶于丙酮;自然界的氟化钙矿物为萤石或氟石,常呈灰、黄、绿、紫等色,有时无色、透明,有玻璃光泽,性脆,有显著荧光现象;密度:3.18g/cm³,熔点:1423℃, 沸点:2500℃,低毒。目前主要用于冶金、化工和建材三大行业;其次用于轻

工、光学、雕刻和国防工业;非常纯的氟石用来制作特种透镜;萤石主要用作冶炼金属的助熔剂;萤石也广泛应用于玻璃、陶瓷、水泥等建材工业中。

产品参数

中文名 氟化钙 化学式 CaF2 分子量 78.08

熔点 1423℃ 沸点 2500℃ 密度 3.18g/cm3

纯度 99.99%

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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