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碳化铬靶材Cr3C2磁控溅射靶材

2021-11-10 02:39:01  445次浏览 次浏览
价 格:面议

科研实验专用碳化铬靶材Cr3C2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

碳化铬(Cr3C2)为灰色粉末,有金属光泽;斜方晶系;密度为6.68g/cm³,熔点:1890℃,沸点:3800℃;在高温环境下(1000~1100℃)具有良好的耐磨、耐腐蚀、抗氧化性能;属于金属陶瓷。用作硬质合金的晶粒细化剂及其他耐磨、耐腐蚀元件;以Cr3C2为基的金属陶瓷在高温下有极优异的抗氧化性能;粗粒碳化铬作为熔喷材料在金属及陶瓷表面形成熔喷覆膜,赋予后者以耐磨、耐热、耐蚀等性能,广泛用于飞机发动机及石油化工机械器件上,以大大提高机械寿命;亦用于喷制半导体膜。

产品参数

中文名 碳化铬 化学式 Cr3C2 分子量 180.01

熔点 1890℃ 沸点 3800℃ 密度 6.68g/mL

纯度 99.9%

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

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