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氟化铝靶材AlF3磁控溅射靶材

2021-11-10 06:57:01  382次浏览 次浏览
价 格:面议

科研实验专用氟化铝靶材AlF3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

氟化铝(AlF3)常为无色或白色结晶,性质稳定,不溶于水,不溶于酸和碱,不被氢还原,强热不分解但升华,与液氨或浓硫酸共加热,或者与氢氧化钾共熔均无反应,加热到300-400℃能被水蒸气部分分解为氟化氢和氧化铝。主要用于炼铝生产,以降低熔点和提高电解质的导电率。酒精生产中用作起副发酵作用的抑制剂。也用作陶瓷釉和搪瓷釉的助熔剂和釉药的组分。还可用作冶炼非铁金属的熔剂。

产品参数

中文名 氟化铝 化学式 AlF3 相对分子质量 83.98

熔点(℃):1040 相对密度(水=1):1.91 沸点(℃):1537

纯度 99.9%

支持合金靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

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